Diese partikulären Oberflächenverunreinigungen sind nach dem Schleifprozess durch übliche Reinigungsprozesse nicht rückstandsfrei zu entfernen und beeinflussen Topographie, Morphologie, Energieniveau und das Partikelgenerationsverhalten einer Edelstahloberfläche nachteilig. Eine gesicherte Reinigung der Oberfläche von derartigen Kontaminationen ist ausschließlich durch einen elektrochemischen Abtrag von ca. 3–5 µm (Anodische Reinigung) gesichert zu gewährleisten.
© 2013 – ECV – Lexikon der Pharmatechnologie